實驗前必須對真空室進行烘烤,主要目的是()。
A.烘幹待蒸鍍材料,除去水分
B.提高薄膜生長的溫度
C.去除吸附在鍍膜室內壁上的水分子和氣體分子
D.以上都是
正確答案:去除吸附在鍍膜室內壁上的水分子和氣體分子
實驗前必須對真空室進行烘烤,主要目的是()。
A.烘幹待蒸鍍材料,除去水分
B.提高薄膜生長的溫度
C.去除吸附在鍍膜室內壁上的水分子和氣體分子
D.以上都是
正確答案:去除吸附在鍍膜室內壁上的水分子和氣體分子